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新・半導体工場のすべて 設備・材料・プロセスからAI技術の活用まで
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新・半導体工場のすべて 設備・材料・プロセスからAI技術の活用まで

菊地正典(著者)

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新・半導体工場のすべて 設備・材料・プロセスからAI技術の活用まで

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商品詳細

内容紹介
販売会社/発売会社 ダイヤモンド社
発売年月日 2025/03/05
JAN 9784478122013

新・半導体工場のすべて

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2025/10/14
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めも ・EUV  作れるのはASML(蘭)  使いこなせるのはTSMC(台)  ラピダスも導入 ・ダマシン  象嵌細工。絶縁層で溝を作って、めっき→エッチングで銅の埋め込み配線を形成。 ・シリコン  生産の66%が中国(2012)。アルミニウムと同じく電気の缶詰。電気代の高い日本では作れない。

Posted by ブクログ

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